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GVC-1000小型离子溅射仪
技术指标工作方式:磁控溅射外形尺寸:424(L)×271(D)×255(H)mm极限真空:<1Pa溅射靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等工作介质:空气或氩气真空室:高硅硼玻璃φ128
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用
技术指标溅射电流:5-45mA工作方式:全自动磁控溅射电压:600V靶材:金、铂(标配、二选一)真空度:<1Pa真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动
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等离子薄膜溅射仪
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和
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离子溅射仪ISC 150
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EMS镀膜仪(离子溅射仪)
产品名称:EMS镀膜仪(离子溅射仪)品牌:EMS 型号:EMS150RES EMS 150R S – 紧凑型机械泵溅射仪,适合非氧化金属 EMS 150R E – 紧凑型机械泵镀碳仪
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离子溅射仪 喷金仪
VC-100型喷碳仪性能介绍真空泵连接真空室,控制单元提供电压,机械泵抽气速率50L/分。 主机的真空室含有喷碳头,玻璃罩样品底座。"O"型密封封闭真空系统,工作时发真空度可达
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
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SD-160离子溅射仪
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LUXOR 磁控离子溅射仪
LUXOR喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果! LUXOR喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用
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